Dual-Action-Applikator-Pads sind vielseitige Reinigungswerkzeuge, die oft zwei verschiedene Oberflächen oder Materialien kombinieren, um unterschiedliche Reinigungsaufgaben zu erfüllen. Eine Seite kann beispielsweise für das Polieren und eine andere für das Aufnehmen von Schmutz konzipiert sein. Dies macht sie ideal für die Anwendung von Reinigungsmitteln, Wachsen oder Polituren auf verschiedenen Oberflächen.
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Koch Chemie Fine Cut M3.02 Polierpad - Dieses Pad mit einer mittleren Schnittigkeit ist ideal für die Entfernung von feinen Kratzern und Hologrammen. Seine Dual-Action-Eigenschaften ermöglichen sowohl eine abtragende als auch eine polierende Wirkung.
Koch Chemie Fine Cut -
Koch Chemie Heavy Cut H8.02 Polierpad - Dieses aggressivere Pad wurde entwickelt, um tiefere Kratzer und Lackfehler zu beseitigen. Es ist perfekt für die erste Stufe des Polierens, bei der eine stärkere Abtragung erforderlich ist.
Koch Chemie Heavy Cut -
Koch Chemie Micro Cut M2.01 Polierpad - Dieses Pad ist speziell für das Auspolieren von Hochglanzoberflächen konzipiert und hinterlässt ein spiegelndes Finish. Ideal für die Nachbearbeitung nach aggressiveren Pads.
Koch Chemie Micro Cut -
RUPES DA Feinpolierpad - Speziell für die Dual-Action-Polierer entwickelt, bietet dieses Pad eine excelente Balance zwischen Abtragsleistung und Finish. Es ist perfekt für die Entfernung von feinen Defekten und das Erreichen eines hohen Glanzes.
RUPES DA Feinpolierpad -
RUPES DA Grobpolierpad - Dieses Pad ist die erste Wahl, wenn es um die Beseitigung von tieferen Kratzern und Lackfehlern geht. Seine robuste Struktur ermöglicht eine effektive Abtragung.
RUPES DA Grobpolierpad
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